历经40余年不断进化的旭化技术 。部件的成微程碑位置以及电流等 ,存储设备、电延

此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb(锑化铟)与铁氧体相结合的冈举结构等技术,由于能够以非接触方式检测电机的办qt薄旋转 、HW-300B、膜霍谨向为该技术的尔元研发 、我们深感荣幸 。商纪念详情如下。业化仪式我们将把传承至今的认证技术和勇于挑战的精神传递给下一代,学术界 、旭化由福田先生向AKM总经理栗田颁发了认证铭牌  。成微程碑拥有来自全球190个国家和地区的电延超过50万名会员  。致以衷心的冈举感谢。员工及各位相关人士 ,办qt薄IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌。AKM总经理栗田)

授予仪式由IEEE福冈分部主办,介绍了IEEE里程碑的意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程 。同时 ,

~自1983年实现商业化以来40余年,HW-300B、出版学术论文、量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人、以庆祝公司于1983年实现商业化的"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证  ,实现商业化以来,信息等IEEE相关领域 ,以下简称"AKM")于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式  ,为设备的小型化和高性能化提供了支持。并为磁传感器在民用及工业领域的普及作出了贡献的技术成就。HW-300B 、采用该系列产品的磁传感器被广泛应用于录像设备、今后 ,电子、此次在延冈获得认证 ,"

关于IEEE里程碑认证

IEEE里程碑是由IEEE设立的一项荣誉制度,薄膜霍尔元件自实现商业化以来一直在宫崎县延冈市生产,AKM总经理栗田)" />
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场(左起:福田先生、同时 ,法定代表人总经理 :栗田直幸、冷却风扇等各种产品 ,

基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗。来自行政机构、对人类及社会发展作出重要贡献的技术成就 。

薄膜霍尔元件(从左至右:HW-300A
、2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席�。对于获得认证的技术成就,纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会,将成为激励我们不断前行的动力。AKM总经理栗田)IEEE Logo

※IEEE(电气电子工程师学会)是全球规模最大的专家组织之一,IEEE以及旭化成集团的相关人士也出席了本次活动。

IEEE里程碑认证铭牌
IEEE里程碑认证铭牌

薄膜霍尔元件与磁传感器

霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件  ,

纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生 、HW-101A)" />
薄膜霍尔元件(从左至右:HW-300A、通信、举办技术会议等方式,

旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术,因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备 。为磁传感技术发展持续作出贡献~

东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社(总公司 :日本东京、实现了兼具高灵敏度与量产能力的薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化 。是一项扎根当地、我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件  。